ANOTACE
Tato práce se zabývá depozicí grafenových vrstev na kovových substrátech pomocí technologie CVD. Jakožto substráty sloužily měděné folie a porézní niklové pěny. Byla sledována závislost strukturní kvality v závislosti na složení reagujících plynných prekurzorů. Dále byl zkoumán vliv povrchové morfologie použitých substrátu na depoziční proces. Po depozici byly grafenové vrstvy přenášeny na nevodivé Si/SiO2substráty za pomocí dvou metod. Dále byl zkoumán vliv přítomnosti čpavku v plynných prekurzorech na možnosti dopace dusíkem. Z hlediska strukturní kvality byla použita metoda Ramanovy spektroskopie. Povrchová morfologie substrátů i vrstev po depozici byla provedena pomocí mikroskopie atomárních sil a skenovací elektronové mikroskopie. Pro měření rezistivity posloužila čtyřbodová metoda Van der Pauw. P…