CZ | EN

Optimalizace depozice grafenových vrstev na kovových substrátech a jejich přenos

Optimization of graphene layers deposition on metallic substrates and its transfer

Optimalizace depozice grafenových vrstev na kovových substrátech a jejich přenos

Optimization of graphene layers deposition on metallic substrates and its transfer

ANOTACE

Tato práce se zabývá depozicí grafenových vrstev na kovových substrátech pomocí technologie CVD. Jakožto substráty sloužily měděné folie a porézní niklové pěny. Byla sledována závislost strukturní kvality v závislosti na složení reagujících plynných prekurzorů. Dále byl zkoumán vliv povrchové morfologie použitých substrátu na depoziční proces. Po depozici byly grafenové vrstvy přenášeny na nevodivé Si/SiO2substráty za pomocí dvou metod. Dále byl zkoumán vliv přítomnosti čpavku v plynných prekurzorech na možnosti dopace dusíkem. Z hlediska strukturní kvality byla použita metoda Ramanovy spektroskopie. Povrchová morfologie substrátů i vrstev po depozici byla provedena pomocí mikroskopie atomárních sil a skenovací elektronové mikroskopie. Pro měření rezistivity posloužila čtyřbodová metoda Van der Pauw. P

ANNOTATION

This thesis concerns deposition of graphene layers on metallic substrates using CVD technology. Copper foils and porous nickel foams were used as substrates. Dependence of structural quality on composition of reacting gaseous precursors was observed. Substrate morphology dependence of deposition process was also investigated. After the deposition graphene layers were transferred onto insulating Si/SiO2substrates using two methods. Possibility of doping using ammonia was investigated. Structural quality was examined by Raman spectroscopy. Surface morphology of the substrates as well as graphene layers was achieved by Atomic Force Microscopy and Scanning Electron Microscopy. Van der Pauw method was used for resistivity measurements. Presence of potential dopants and/or impurities was verified using X-ray